[发明专利]半导体工艺设备及静电卡盘表面电荷量的检测方法在审
| 申请号： | 202011356809.X | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112526242A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 侯朋飞 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G01R29/24 | 分类号： | G01R29/24;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 姚琳洁;朱文杰 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种半导体工艺设备及静电卡盘表面电荷量的检测方法，所述半导体工艺设备包括上电极组件、工艺腔室、直流电源、电压检测器和直流滤波器；工艺腔室接地；工艺腔室内设置有静电卡盘；直流滤波器包括电容和电感，电容一端接地，另一端通过电感与静电卡盘中的吸附电极连接，同时与直流电源连接；直流电源通过电感与吸附电极连接；电压检测器与电容连接；上电极组件用于在工艺结束后，继续维持所述工艺腔室中的等离子体；电压检测器用于在上电极组件继续维持所述等离子体时，检测电容上的第一电压，并通过第一电压计算静电卡盘表面的电荷量。该半导体工艺设备实现了工艺腔室内的静电卡盘表面电荷量的可测量性。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 静电 卡盘 表面 电荷 检测 方法 | ||
【主权项】：
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