[发明专利]一种集成电路制造光源优化方法及电子设备在审
| 申请号： | 202011314971.5 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112506008A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 闫歌;丁明 | 申请（专利权）人： | 深圳晶源信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人： | 罗芬梅 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福田区福保*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及集成电路制造技术领域，尤其涉及集成电路制造光源优化方法及电子设备，所述方法包括如下步骤：S1、提供初始光源；S2、根据初始光源的光源强度分布进行区域分割以获得多个子光源区域；S3、提供至少两种匹配图形，将至少两种匹配图形分别与每个子光源区域进行匹配以获得与每个子光源区域对应的至少两个匹配结果；S4、基于至少两个匹配结果分别与每个子光源区域进行计算以获得与每个子光源区域对应的最佳匹配图形；及S5、基于与每个子光源区域对应的最佳匹配图形生成待优化光源。用匹配图形与分割的子光源区域进行匹配能很好的提高待优化光源的光源强度集中度，同时使得光源形状更加理想，更好的获得满足用户需求的光源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 集成电路 制造 光源 优化 方法 电子设备 | ||
【主权项】：
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