[发明专利]一种掩模优化方法、掩模优化系统及电子设备

摘要

本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及掩模优化方法、掩模优化系统及电子设备。包括步骤：S1、提供包括至少一个掩模图形的掩模版图，并将掩模版图划分成多个区域块，至少部分区域块中包括至少一个掩模图形；S2、对区域块中每个掩模图形所有的线段分别与其周围的线段执行计算，获得并记录与每条线段对应的特征值；S3、统计所有区域块中的特征值，基于特征值对所述区域块进行分类，基于分类结果选择需要执行优化的区域块定义为执行块，所有执行块之间的掩模图形的线段的特征值存在区别；及S4、对执行块进行优化，并记录优化结果，且基于优化结果对掩模版图进行全局优化，基于上述步骤对掩模版图进行优化能很好的减小运算量，提高优化效率。