[发明专利]外差一维光栅位移测量装置有效

专利信息
申请号: 202011287160.0 申请日: 2020-11-17
公开(公告)号: CN112504131B 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 吉日嘎兰图;尹云飞;李文昊;刘兆武;刘林;白宇 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 代理人: 高一明;郭婷
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供一种外差一维光栅位移测量装置,采用上下对称的结构分布,消除测量装置在光程上所引入影响;利用双频激光器发出的两束正交的线偏振光,其中频率为f1的‑1级衍射光和频率为f2的+1级衍射光干涉形成‑2Δf的多普勒频移,频率为f1的+1级衍射光和频率为f2的‑1级衍射光干涉形成2Δf的多普勒频移,信号处理系统对信号进行差分处理,可实现单次衍射的四倍光学细分。本发明可实现单次衍射的四倍光学细分,也可采用直角棱镜或角锥棱镜实现八倍的光学细分,同时利用空间上结构微小差异来消除杂光影响,实现位移测量装置高分辨率的目的。
搜索关键词: 外差 光栅 位移 测量 装置
【主权项】:
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