[发明专利]一种高熵合金基光谱选择性太阳能吸收涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011283151.4 申请日: 2020-11-17
公开(公告)号: CN112442668B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 高祥虎;刘刚;刘维民;何成玉;于冬梅 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/06;F24S70/225
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 代理人: 曹向东
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明涉及一种高熵合金基光谱选择性太阳能吸收涂层,该涂层由吸热体基底、吸收层、减反射层组成;所述吸收层是指采用等摩尔比或非等摩尔比的金属Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、Si、Al中的四种或四种以上元素通过熔炼法制备的高熵合金。本发明还公开了该涂层的制备方法。本发明制备工艺简单、成本较低,所制备的涂层在大气质量因子AM1.5条件下,吸收率≥0.92,发射率0.10;且该涂层在真空大于600℃具有良好的热稳定性能,可应用于太阳能高温光热发电、海水淡化、重质油开采及中低温光热利用领域。
搜索关键词: 一种 合金 光谱 选择性 太阳能 吸收 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
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