[发明专利]一种等离子体处理装置在审
申请号: | 202011278984.1 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN112259436A | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 邱勇;张鹏兵;陈世名 | 申请(专利权)人: | 上海谙邦半导体设备有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201306 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种等离子体处理装置,包括:反应腔主体,所述反应腔主体的顶部设置有等离子体通道板组件;所述等离子体通道板组件包括:等离子体通道板;位于等离子体通道板侧部的定位件,所述定位件的弹性模量小于所述等离子体通道板的弹性模量;位于所述等离子体通道板上方的等离子体发生单元。所述等离子体处理装置能够避免等离子体通道板在高温条件下损伤。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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