[发明专利]一种真空磁控溅射镀膜设备除渣装置有效

专利信息
申请号: 202011275219.4 申请日: 2020-11-16
公开(公告)号: CN112458426B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 彭寿;蒋洋;官敏;宋晓贞;王伟;张少波;樊黎虎;马迎;钟汝梅;周道钧 申请(专利权)人: 凯盛信息显示材料(洛阳)有限公司;凯盛科技集团有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 昆明合众智信知识产权事务所 53113 代理人: 张玺
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种真空磁控溅射镀膜设备除渣装置,包括U型板、套筒和伸出筒,所述转动齿轮一固定连接有螺纹丝杆,所述螺纹丝杆依次活动穿过伸出槽、动力槽、螺纹槽,且螺纹丝杆活动伸入压气槽中,所述伸出筒外侧设置有与套筒配合的内螺纹,所述伸出筒内固定设置有弹性气囊,伸出卡槽的部分所述弹性气囊固定连接有清理块一,所述卡槽中活动设置有止气杆,且止气杆卡住弹性气囊,所述伸出筒侧壁固定连接有清理块二,所述转动齿轮二与转动齿轮一啮合连接,本发明在使用中,通过清理块一和清理块二对通道挡板内部和下方的溅射残渣进行清理,实现对溅射残渣的全面清理,并通过U型板对清理后的溅射残渣进行收集,防止二次污染。
搜索关键词: 一种 真空 磁控溅射 镀膜 设备 装置
【主权项】:
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