[发明专利]半导体装置在审
| 申请号: | 202011267466.X | 申请日: | 2020-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN112825328A | 公开(公告)日: | 2021-05-21 |
| 发明(设计)人: | 佐藤克己 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/739;H01L27/082 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 涉及半导体装置。与阻断电压相匹配地实现IGBT的导通电压的降低。多个IGBT单元(20)各自具有:n基极层(1),其形成于半导体层(100);p基极层(2),其形成于n基极层的第1主面侧的表层部;n发射极层(3),其形成于p基极层的表层部;以及p集电极层(4),其形成于半导体层的第2主面侧的表层部。在半导体层的第1主面之上形成以隔着栅极绝缘膜(7)与n基极层、p基极层及n发射极层相对的方式形成的栅极电极(8)、与p基极层及n发射极层连接的发射极电极(10)。在半导体层的第2主面之上形成与p集电极层连接的集电极电极(11)。多个IGBT单元的间距大于或等于p基极层与p集电极层之间的距离的1/40且小于或等于该距离的1/20。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
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