[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202011267466.X 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112825328A 公开(公告)日: 2021-05-21
发明(设计)人: 佐藤克己 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/739;H01L27/082
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 涉及半导体装置。与阻断电压相匹配地实现IGBT的导通电压的降低。多个IGBT单元(20)各自具有:n基极层(1),其形成于半导体层(100);p基极层(2),其形成于n基极层的第1主面侧的表层部;n发射极层(3),其形成于p基极层的表层部;以及p集电极层(4),其形成于半导体层的第2主面侧的表层部。在半导体层的第1主面之上形成以隔着栅极绝缘膜(7)与n基极层、p基极层及n发射极层相对的方式形成的栅极电极(8)、与p基极层及n发射极层连接的发射极电极(10)。在半导体层的第2主面之上形成与p集电极层连接的集电极电极(11)。多个IGBT单元的间距大于或等于p基极层与p集电极层之间的距离的1/40且小于或等于该距离的1/20。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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