[发明专利]一种基于图案化衬底的有机场效应晶体管制备方法在审
| 申请号: | 202011254599.3 | 申请日: | 2020-11-11 |
| 公开(公告)号: | CN112490362A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
| 发明(设计)人: | 李世光;刘旭;吴汉勋;高溥婕 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
| 主分类号: | H01L51/05 | 分类号: | H01L51/05;H01L51/40 |
| 代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 韩玙 |
| 地址: | 710048 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种基于图案化衬底的有机场效应晶体管制备方法,过程为:取硅片,清洗后,通过光刻胶对硅片进行匀胶;通过掩膜版进行曝光,再通过显影液进行显影,随后进行清洗,坚膜,干燥得到显影样片;配置刻蚀液,将显影样片放置于刻蚀液中,摇晃显影样片,20s后取出片子,冲洗,然后再用氮气枪吹干,得到刻蚀样片;将刻蚀样片置于装有AZ去胶液的试管中,清洗,并烘干,得到硅衬底;将HMDS溶液均匀铺到硅衬底上,并通过真空沉积设备蒸镀并五苯有源层;对蒸镀有并五苯有源层的硅衬底制备源漏电极和栅电极,得到有机场效应晶体管;本发明的制备方法使用图案化衬底制备并五苯多晶薄膜,减少了并五苯的晶界,提高了并五苯迁移率。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 基于 图案 衬底 有机 场效应 晶体管 制备 方法 | ||
【主权项】:
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