[发明专利]一种化学机械抛光垫的抛光层及其制备方法有效
| 申请号: | 202011232817.3 | 申请日: | 2020-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN112318363B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
| 发明(设计)人: | 罗建勋;方璞;杨洗;孙烨;王凯 | 申请(专利权)人: | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 主分类号: | B24B37/24 | 分类号: | B24B37/24 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 264006 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种用于化学机械抛光垫抛光层及其制备方法,其通过包含异氰酸酯预聚物、固化剂以及功能填料原料制备得到,预聚物是由二异氰酸酯和聚四氢呋喃多元醇分两步反应得到,固化剂组分是胺类交联剂,功能填料是已膨胀聚合物空心微球。由其制备的抛光层具有弹性模量随温度变化稳定、孔隙率高(微孔体积分数高)以及密度均匀的优点。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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