[发明专利]一种空间磁控溅射镀膜装置

摘要

本发明属于太空表面镀膜设备技术领域，针对现有的表面镀膜装置也无法直接适用于空间领域，本发明的目的在于提供一种空间磁控溅射镀膜装置，气氛保持系统设置有密封门，气氛控制系统设置有充气装置，通过充气装置定量向气氛保持系统内充气，膜层制备系统和样品位安装于气氛保持系统内部，膜层制备系统设置有一个或多个溅射源，通过薄膜检测系统检测制备完成的膜层。可实现空间环境下单腔体内的多工位镀膜、以及所镀样品的初步质量检测。本装置充分利用空间高真空优势，使膜层纯度更高，整个装置具有能耗低，可在空间大规模开展薄膜制备，表面处理的优势。