[发明专利]氧化物限制的垂直腔面发射激光器中的水分控制在审
| 申请号： | 202011185978.1 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112787216A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 卢卡斯·马特;诺伯特·利希滕斯坦 | 申请（专利权）人： | 贰陆特拉华公司 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;H01S5/187 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于氧化物限制的VCSEL的制造顺序包括在暴露的水平表面上沉积保护性涂层，以防止在用于产生氧化物孔隙的侧向氧化工艺期间形成不希望的氧化物层。通过首先防止这些表面的氧化，消除了水分进入VCSEL的激活区的机会。例如，在开始用于形成VCSEL的氧化物孔隙的常规侧向氧化工艺之前，将暴露的含Al表面用介电材料的保护性涂层覆盖。在保护性涂层处于适当的位置的情况下，常规的制造工艺恢复，并且保护性涂层最终形成用于为最终的VCSEL器件提供电绝缘的钝化层的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 限制 垂直 发射 激光器 中的 水分 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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