[发明专利]一种电容芯片加工用刻蚀装置有效
| 申请号： | 202011185360.5 | 申请日： | 2020-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN112447418B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 巩铁凡 | 申请（专利权）人： | 新创电子技术（东莞）有限公司 |
| 主分类号： | H01G13/00 | 分类号： | H01G13/00 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 魏忠晖 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了刻蚀装置技术领域的一种电容芯片加工用刻蚀装置，包括，底座，所述底座顶部固定设置有承接台，所述底座顶部四周均固定设置有支撑柱，四组所述支撑柱顶部分别与顶板底部四周固定；刻蚀组件，包括滑动动设置在顶板底部中部的调控组件一，所述调控组件一底部设置有调控组件二，所述调控组件二底部设置有刻蚀液筒组件。本发明可根据电容芯片主体待刻蚀一面上的指定位置，选择径向刻蚀方式或横向刻蚀方式，并且可根据选择好刻蚀方式对电容芯片主体上的指定位置进行滚动刻蚀，在刻蚀时实现间隙性的供液，一方面避免了在刻蚀指定位置时刻蚀液过多对其他不需要进行刻蚀的位置造成影响，另一方面降低了刻蚀溶液的浪费，降低使用成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电容 芯片 工用 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
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