[发明专利]一种电子束曝光机的上下料方法在审
| 申请号： | 202011137388.1 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN112255888A | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 华卫群;尤春;薛文卿;刘维维 | 申请（专利权）人： | 无锡中微掩模电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 杜丹盛 |
| 地址： | 214135 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电子束曝光机的上下料方法，其最大限度地挖掘出曝光机的产能，把电子束曝光机因上下料大气/真空转换时间均用在有效的曝光产出上，提高了曝光机的生产效率，降低了产品的成本。其包括上下料大气/真空转换腔体和工艺腔体，工艺腔体为电子束曝光机对掩模版的曝光加工区域，所述上下料大气/真空转换腔体和工艺腔体之间设置有隔离阀结构，所述上下料/真空转换腔体内布置有第一小腔体、第二小腔体，所述第一小腔体、第二小腔体为上下排列布置的独立腔体，所述第一小腔体、第二小腔体组合形成整体外壳结构，所述整体外壳结构的高度方向连接有伺服驱动装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子束 曝光 上下 方法 | ||
【主权项】：
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