[发明专利]一种双压力膨胀室灭弧室有效
| 申请号： | 202011123397.5 | 申请日： | 2020-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN112289628B | 公开（公告）日： | 2023-02-24 |
| 发明（设计）人： | 成勇;丁亮;陈志彬;朱凯;霍鹏;吉波波 | 申请（专利权）人： | 西安西电开关电气有限公司;中国西电电气股份有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/22 | 分类号： | H01H33/22 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张子宽 |
| 地址： | 710077 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双压力膨胀室灭弧室，包括压气室、高压膨胀室以及低压膨胀室，高压膨胀室的体积小于低压膨胀室的体积；压气室内的绝缘气体能够被压入低压膨胀室内。在大短路电流开断过程中，电弧能量较大，高压膨胀室和低压膨胀室吸收较大能量的电弧，建立起足够的压力。在中小短路电流开断过程中，高压膨胀室能够快速吸收电弧能量、建立高压。而低压膨胀室形成压力较低的绝缘气体。在电流过零时刻，高压膨胀室会以较高速度喷射绝缘气体，熄灭电弧。而低压膨胀室会以较低速度，但持续较长时间地喷射绝缘气体，从而进一步熄灭电弧。另外，存在压力差和温度差的两种绝缘气体会形成涡流，从而提升电弧区域的冷却效果，提高灭弧能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 压力 膨胀 室灭弧室 | ||
【主权项】：
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