[发明专利]一种量子点光学补偿膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202011123364.0 | 申请日： | 2020-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN114388677A | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 董晓楠;邓徐俊;任树铭;李阳 | 申请（专利权）人： | 广东普加福光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/50 | 分类号： | H01L33/50;H01L33/58;H01L33/60;C09K11/02 |
| 代理公司： | 广州骏思知识产权代理有限公司 44425 | 代理人： | 卢娟 |
| 地址： | 529000 广东省江*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种量子点光学补偿膜及其制备方法，所述量子点光学补偿膜包括柔性衬底以及浸渍沉积于所述柔性衬底上的双层光子晶体自封装量子点层；所述双层光子晶体自封装量子点层依次包括第一光子晶体沉积层、量子点喷淋层以及第二光子晶体沉积层。本发明所述量子点光学补偿膜利用双层光子晶体成膜实现对量子点的自封装，自发构筑封装结构，保护效果好，有效隔绝水氧侵蚀，原材料简单，无需光热聚合，无需猝灭剂混合参与，有效确保量子点的光致稳定性，发光强度高、光源利用率高且能够改善辐照均匀度的优点。所述的量子点光学补偿膜的制备方法制备工艺简单，生产周期短且成本较低，适用于农业大规模应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 量子 光学 补偿 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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