[发明专利]一种可规模化生产的高稳定无机空穴传输薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011103189.9 申请日: 2020-10-15
公开(公告)号: CN112310287A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 芮一川;王晓洁;石江珊;金作明 申请(专利权)人: 上海工程技术大学
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/42;B05D1/02;B05D7/24;B82Y10/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 蒋亮珠
地址: 201620 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种可规模化生产的高稳定无机空穴传输薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将二价铜源、三价铁源和三价铬源溶于去离子水中,搅拌均匀后加入碱源,搅拌15~30min,然后将混合溶液移入反应釜进行水热反应;(2)向步骤(1)所得产物中加入稀盐酸调节溶液pH至6.5~7.5,随后依次用去离子水和乙醇离心清洗产物,将清洗后的产物分散在醇类有机溶剂中,制得Fe‑CuCrO2胶体溶液;(3)将步骤(2)所得的胶体溶液转移到喷枪中,喷涂在预热的导电基底表面,控制喷涂时间获得不同层厚的薄膜,加热退火,得到薄膜。与现有技术相比,本发明工艺简单,原料易得,成本低廉,能耗低,可规模化生产,所得Fe‑CuCrO2薄膜稳定性高,能够提高空穴提取率,同时有效阻挡电子注入。
搜索关键词: 一种 规模化 生产 稳定 无机 空穴 传输 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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