[发明专利]单次曝光相位恢复成像装置和成像方法在审
| 申请号： | 202011102150.5 | 申请日： | 2020-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN112326601A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 刘诚;昌成成;陶华;潘兴臣;朱健强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种单次曝光相位恢复成像装置，包括LD光源、半球壳、小孔、样品、二维位移平台、二维光电探测器、电脑以及数据采集与处理软件；和成像方法，先通过二维位移平台移动样品，对照明光阵列进行标定，得到每一个照明光束的复振幅分布；再用二维光电探测器记录一幅含有30个子衍射斑的衍射图，将样品的复振幅分布恢复出来。本发明装置结构简单，造价低，数据采集时间短，相位恢复算法具有收敛速度快，成像测量精度高等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 相位 恢复 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011102150.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
