[发明专利]一种用于压差形变测量的纳米级干涉测量方法有效

专利信息
申请号: 202011085785.9 申请日: 2020-10-12
公开(公告)号: CN112097667B 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 王丹艺;王劭溥;蒋山平;张鹏嵩;张磊;夏彦;杨林华;向艳红;李竑松 申请(专利权)人: 北京卫星环境工程研究所
主分类号: G01B11/16 分类号: G01B11/16
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 成丹
地址: 100094 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供一种用于压差形变测量的纳米级干涉测量方法,包括以下步骤:激光器发射光束传输至分光镜;分光镜将部分光束经参考镜反射后作为参考光束,其余光束穿过分光镜后进入真空容器内的测试样件上;包含测试样件特性的测试光束返回分光镜;反射出分光镜的测试光束与透射出分光镜的参考光束在传输至接收器的光程中发生干涉;接收器将干涉数据发送至数据采集单元;计算单元对接收的数据进行计算,得到测试样件未修正的形变数据;对未修正的形变数据进行修正,得到真实的形变数据。本申请的有益效果是:基于激光干涉原理,通过对环境气压实时反馈并进行折射率实时计算,最终实现对介质折射率变化造成光程差的补偿,实现压差形变的高精度测量。
搜索关键词: 一种 用于 形变 测量 纳米 干涉 测量方法
【主权项】:
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