[发明专利]硅片清洗添加剂、硅片清洗液及其应用在审
| 申请号： | 202011047317.2 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112143590A | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 陈盼盼;于胤;杨勇;章圆圆 | 申请（专利权）人： | 常州时创能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;C11D7/06;C11D7/08;C11D7/60;C11D3/37;C11D3/39;B08B3/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片清洗添加剂、硅片清洗液及应用，所述清洗添加剂由以下质量份数的成份组成：螯合剂2～6份、表面活性剂0.1～0.5份、渗透剂0.5～2份、稳定剂2～5份、去离子水80～90份；所述螯合剂为金属螯合剂，所述表面活性剂为非离子表面活性剂，所述渗透剂为聚乙二醇，所述稳定剂为阳离子聚合物；所述硅片清洗液含有碱溶液或酸溶液以及上述硅片清洗添加剂。本发明既有效去除了硅片表面的金属杂质，又防止金属杂质再次污染硅片；提高了硅片表面的清洁度，降低了金属杂质带来的复合，提高了电池的光电转换效率；该硅片清洗添加剂不挥发，无刺激气味，稳定性好，不损伤硅片。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 清洗 添加剂 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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