[发明专利]基于光场高阶空间关联的单次曝光X射线衍射成像装置及方法有效
| 申请号： | 202011014594.3 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN112198176B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 谈志杰;喻虹;朱瑞国;韩申生 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N23/2055 | 分类号： | G01N23/2055 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于光场高阶空间关联的单次曝光X射线衍射成像装置及方法，装置包括X射线源、分束装置、参考臂光阑，待测物体、X射线面阵探测器和计算机。X射线源发出的光经过分束装置，分为参考光与探测光，参考光沿参考臂光轴方向经过参考臂光阑，光强空间分布被X射线参考臂面阵探测器记录，探测光沿探测臂光轴方向通过待测物体，光强空间分布被X射线探测臂面阵探测器记录。计算机与X射线面阵探测器相连，具有对采集到的光强空间分布进行空间关联运算的程序。本发明基于光场的高阶空间关联特性，其数据采集和处理过程不同于传统的时间序列关联成像计算方法，应用于X射线关联成像中，能极大的提高图像质量和成像速度，并减少样品辐射损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光场高阶 空间 关联 曝光 射线 衍射 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
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