[发明专利]成像透镜、相机模块及电子装置在审
| 申请号： | 202010993395.5 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN112034539A | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 张明顺;周明达 | 申请（专利权）人： | 大立光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种成像透镜、相机模块及电子装置。成像透镜包含光学有效区、外径面、二切除痕以及二净空面。这些切除痕之一对应成像透镜的塑料的注料口，而这些切除痕之另一则对应让多余塑料流出的溢料区。在成像透镜成型的过程中，由于塑料可透过溢料区流出，因此最后成型时的接合线即会位于溢料区而不会位于光学有效区。在将注料口及溢料区切除而形成切除痕之后，即可让成像透镜中不复存在成像瑕疵处，从而提高成像品质。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 透镜 相机 模块 电子 装置 | ||
【主权项】：
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