[发明专利]用于搜索肽分子的修饰位点的方法、设备以及记录介质在审
| 申请号： | 202010967742.7 | 申请日： | 2020-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN112768002A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 谷田义明 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G16B20/30 | 分类号： | G16B20/30;G16B50/30 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 高岩;乔图 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于搜索肽分子的修饰位点的方法、设备以及记录介质。一种用于搜索肽分子的修饰位点的方法，包括：由计算机通过使用肽分子的第一空间结构的数据计算所述肽分子的第二空间结构，第一空间结构是肽分子在目标分子和肽分子的复合结构中的空间结构，第二空间结构是在肽分子的主链在第一空间结构中的空间构型为固定的状态下肽分子的稳定空间结构；以及将第二空间结构的数据与第一空间结构的数据进行比较，以搜索在这两个空间结构之间在空间构型上具有差异的侧链。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 搜索 分子 修饰 方法 设备 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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