[发明专利]一种具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜及其制备方法与应用在审
| 申请号: | 202010962237.3 | 申请日: | 2020-09-14 | 
| 公开(公告)号: | CN112121648A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 | 
| 发明(设计)人: | 陈桂娥;陈镇;谢焕银;李怡静;万佳俊;刘连静;汪洋;许振良 | 申请(专利权)人: | 上海应用技术大学 | 
| 主分类号: | B01D71/34 | 分类号: | B01D71/34;B01D69/02;B01D67/00;B01D65/02 | 
| 代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 顾艳哲 | 
| 地址: | 201418 *** | 国省代码: | 上海;31 | 
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| 摘要: | 本发明涉及一种具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜及其制备方法与应用,制备方法包括:将SnO | ||
| 搜索关键词: | 一种 具有 光催化 清洁 性能 聚偏氟 乙烯 混合 基质 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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