[发明专利]一种高质量银镓溅射靶材的制备方法有效
| 申请号： | 202010941620.0 | 申请日： | 2020-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN112176295B | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 沈文兴;童培云;白平平;张强;肖翀 | 申请（专利权）人： | 先导薄膜材料（广东）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F9/08;B22F3/15;B22F1/14;B22F3/24 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 颜希文 |
| 地址： | 511517 广东省清*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高质量银镓溅射靶材的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：(1)将银锭和镓锭装入气雾化制粉炉内，感应加热，形成合金液体；然后通过保护气流破碎合金液体，得到微米级银镓合金粉体；(2)筛分，得到筛分后的银镓合金粉体；(3)预压处理，然后进行真空热压成型，得到银镓合金块；(4)热等静压烧结，得到银镓合金靶坯；(5)机械加工，得到高质量银镓溅射靶材。本发明采用真空热压成型和热等静压烧结技术相结合制备的银镓合金溅射靶材，有效避免了靶材密度低、靶材密度分布不均和内部缺陷等系列问题，且具有平均晶粒尺寸均匀且小于70μm、氧含量低和组分均匀等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 质量 溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
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