[发明专利]一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底在审
申请号: | 202010895745.4 | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN111983823A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 中山科立特光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02F1/03;G02B5/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528458 广东省中山市中山火炬开发区中心城区港*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及克尔效应应用领域,具体提供了一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底,应用时,入射光倾斜照射微结构,引起横部中水平方向的电荷振动,水平方向的电荷振动引起电荷在第一竖直部和第二竖直部中沿竖直方向振动,产生法诺共振,从而在磁性材料层内产生强电场,这些强电场与磁性材料层作用,增强了衬底的克尔效应。本发明中,将水平方向的电荷振动诱导为竖直方向的电荷振动,增加了磁性材料层与入射光的作用,具有克尔效应强的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 有法 共振 效果 克尔 效应 衬底 | ||
【主权项】:
暂无信息
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