[发明专利]基于电阻抗成像技术的足底压力面参数测量系统及方法在审

专利信息
申请号: 202010867971.1 申请日: 2020-08-26
公开(公告)号: CN111938642A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 周佩如;张寅天;王岽然;高宗;付正;舒琳 申请(专利权)人: 暨南大学;华南理工大学
主分类号: A61B5/053 分类号: A61B5/053;A61B5/103
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 林梅繁
地址: 510632 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明为基于电阻抗成像技术的足底压力面参数测量系统及方法,包括压力面参数感应鞋垫、传感器阵列控制模块、电极阵列、结果计算和显示终端;电极阵列铺设在压力面参数感应鞋垫上;传感器阵列控制模块包括单片机、激励电极选通模块、电压测量电极选通模块,电极阵列采集足底电压数据并传输给单片机,单片机对所采集的足底电压数据进行处理后,向结果计算和显示终端输出处理后的电压数据组,通过电阻抗成像算法和关联特性标定方法得出整片导电橡胶上的压力分布。本发明采集数据速率快、精度高,检测结果直观、全面,且对人体无损害,为临床诊断、矫形处方、康复治疗等提供可靠数据和客观评价。
搜索关键词: 基于 阻抗 成像 技术 足底 压力 参数 测量 系统 方法
【主权项】:
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