[发明专利]一种大米加工的便于清理的抛光设备有效

专利信息
申请号: 202010867368.3 申请日: 2020-08-25
公开(公告)号: CN111889172B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 颜伟 申请(专利权)人: 湖南省伟利米业有限公司
主分类号: B02B5/02 分类号: B02B5/02;B02B3/04;B02B7/02;B02B1/08;B02B1/02
代理公司: 长沙科永臻知识产权代理事务所(普通合伙) 43227 代理人: 陈洁
地址: 421101 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种大米加工的便于清理的抛光设备,机箱、加料斗、下除杂机构,还包括上除杂机构、加湿机构、抛光机构,所述机箱顶部设置有所述加料斗,所述机箱内部从上往下依次设置有所述上除杂机构、所述加湿机构、所述抛光机构、所述下除杂机构,所述上除杂机构包括震动板、第一震动电机、吸尘器、弹簧、T型板、带磁板、消磁板,所述震动板一端转动连接在所述机箱内部顶端,所述震动板另一端下方焊接有所述弹簧。本发明上除杂机构的设置是实现了在抛光前对大米进行除杂,有益于大米的抛光,加湿机构的设置实现了均匀加湿大米表面的功能,提高了抛光质量,抛光机构的设置提高了抛光效率。
搜索关键词: 一种 大米 加工 便于 清理 抛光 设备
【主权项】:
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