[发明专利]一种GaN基气体传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010846267.8 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN111735859B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 仇志军;叶怀宇;张国旗 申请(专利权)人: 深圳第三代半导体研究院
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12;B82Y15/00;B82Y40/00
代理公司: 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 代理人: 彭随丽
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种GaN基气体传感器及其制备方法,属于气体传感器技术领域,所述制备方法包括:衬底取样,并用浓磷酸对其表面进行预处理;引入固态Ga源、Al源和NH3源,在衬底上依次生长GaN缓冲层、GaN本征层和AlxGa1‑xN层;在AlGaN层上淀积SiO2介质层;在SiO2介质层上淀积贵金属层;在贵金属层上制备两栅极图案,再去除两栅极图案所在位置外的贵金属层和SiO2介质层;在AlGaN层上分别淀积金属形成信号输出电极、电源电极和接地电极;在一栅极图案处的贵金属层上淀积Si3N4层,制得GaN基气体传感器。本发明GaN基气体传感器结构紧凑、集成度高,可适应高温环境,温度稳定性佳,实用性佳。
搜索关键词: 一种 gan 气体 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
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