[发明专利]一种并行超分辨三维直写装置在审
| 申请号： | 202010843633.4 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN111856892A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 丁晨良;朱大钊;匡翠方;刘旭;徐良 | 申请（专利权）人： | 之江实验室 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09;G02B26/08 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种并行超分辨三维直写装置，该装置利用实心光斑对光刻胶的聚合效应与空心光斑的抑制聚合效应，实现超衍射极限的光刻能力；将两束不同波长的光束分别经过数字微镜器件入射到相位衍射微透镜阵列上，分别形成等间距的实心光斑阵列与空心光斑阵列，且实心光斑与空心光斑的中心相重合，利用数字微镜器件的快速开关能力，对实心光斑阵列与空心光斑阵列进行快速、特异性调控，实现复杂结构的并行超分辨三维直写。本发明为基于受激辐射损耗的高通量光刻技术提供高速、可独立调控的实心光斑与空心光斑阵列；具有高分辨三维加工能力、复杂结构加工能力和快速加工能力；可以推动高速、超分辨、具有复杂结构刻写能力的三维直写技术的发展。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 并行 分辨 三维 装置 | ||
【主权项】：
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