[发明专利]一种对1550nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010835729.6 申请日: 2020-08-19
公开(公告)号: CN112068230B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 张雪峰;屠蕊;张鉴 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G03F7/00;B82Y20/00;B82Y40/00
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种对1550 nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法,涉及微纳加工技术领域,所述三维纳米结构为圆形,从下至上依次包括堆叠的金属纳米结构层、绝缘层和金属纳米结构层,所述金属纳米结构层为对称设置的纳米半圆阵列,所述纳米半圆阵列之间设有间隙,所述上下金属纳米结构层间隙之间的夹角为60°;本发明空间扭转三维纳米结构在1550 nm波段这一重要的光通讯波段实现了手性光的差异性响应,对手性光的的透过率差异大,且通过调节绝缘层折射率可以实现差异性响应波段的调节。
搜索关键词: 一种 1550 nm 波段 手性 存在 选择性 透过 差异 空间 扭转 三维 纳米 结构 及其
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