[发明专利]生成集成电路布局图的方法在审
| 申请号： | 202010818421.0 | 申请日： | 2020-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN112446187A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 彭士玮;赖志明;曾健庭 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/394;G06F30/396;H01L27/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种生成集成电路布局图的方法包括在单元区域中布局第一导电特征布局图案。第一导电特征布局图案在第一方向上延伸，且单元区域具有在第二方向上延伸的相对第一及第二单元边界。在单元区域中，布局第二导电特征布局图案在第一方向上延伸。交替地布局第一及第二导电特征布局图案。在单元区域的第一单元边界上及第一导电特征布局图案的端部上，布局第一切割特征布局图案。第一切割特征布局图案中的一个在第一方向上偏移了第一切割特征布局图案中的另一个。生成包含第一、第二导电特征布局图案及第一切割特征布局图案的集成电路布局图。 | ||
| 搜索关键词： | 生成 集成电路 布局 方法 | ||
【主权项】：
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