[发明专利]具有非对称In组分InGaN波导层的氮化镓基激光器在审

专利信息
申请号: 202010781611.X 申请日: 2020-08-06
公开(公告)号: CN111900624A 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 本钰豪;赵德刚;梁锋;杨静;刘宗顺;朱建军;陈平 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/20 分类号: H01S5/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 孙蕾
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种具有非对称In组分InGaN波导层的氮化镓基激光器,包括:GaN同质衬底;n型GaN同质外延层,制作在所述GaN同质衬底上;n型AlGaN限制层,制作在所述n型GaN同质外延层上;InGaN下波导层,制作在所述n型AlGaN限制层上;量子阱有源区,制作在所述InGaN下波导层上;GaN上波导层,制作在所述量子阱有源区上;p型AlGaN电子阻拦层,制作在所述GaN上波导层上;p型AlGaN限制层,制作在所述AlGaN电子阻挡层上;p型重掺杂GaN外延层,制作在所述p型AlGaN限制层上;p型欧姆电极,制作在所述p型重掺杂GaN层上;n型欧姆电极,制作在所述GaN同质衬底的下表面。本发明通过采用非对称的波导层结构能够有效地限制光场,改善光场分布,从而减小光学损耗,提高激光器的性能。
搜索关键词: 具有 对称 in 组分 ingan 波导 氮化 激光器
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010781611.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top