[发明专利]一种高Q高FoM的金属介质辅助GMR的折射率传感芯片在审

专利信息
申请号: 202010778642.X 申请日: 2020-08-05
公开(公告)号: CN111948175A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 何赛灵;刘振超;郭庭彪 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01N21/41 分类号: G01N21/41;G01N21/552
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林松海
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种高Q高FoM的金属介质辅助GMR的折射率传感芯片,所述的折射率传感芯片分为四层结构,第一层为底层的透明介质基底,第二层为金属薄膜层,第三层介质光栅层,第四层为高折射率介质光栅层;其中,介质光栅层和高折射率介质光栅层为周期性光栅阵列,光栅周期同为p,光栅占空比同为q,厚度分别为t1和t2,其中t1t2;通过调整芯片的结构参数,包括金属薄膜层厚度和高折射率介质光栅层的光栅参数及厚度,在Q值较低的GMR(Guided‑Mode Resonance)共振峰的基础上,衍生出一个高Q的共振峰;该高Q共振峰处伴随着相位突变,高Q共振峰具备偏振敏感性。基于本发明可实现高灵敏的折射率传感,对疾病诊断、药物研发、生物化学检测等领域具有发展性的意义。
搜索关键词: 一种 fom 金属 介质 辅助 gmr 折射率 传感 芯片
【主权项】:
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