[发明专利]一种増减材制造中基于体素曲面距离场的轨迹规划方法有效
| 申请号： | 202010760750.4 | 申请日： | 2020-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN111951399B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 戴福生;张海鸥;王桂兰 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G06T17/20 | 分类号： | G06T17/20;G06Q10/047;G06F18/23;G06F30/20;G06T11/20;G06F113/10 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孔娜;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于増材制造相关技术领域，并公开了一种増减材制造中基于体素曲面距离场的轨迹规划方法。该方法包括：S1对于待加工对象的底座上表面体素化，与底座上表面相交的体素形成体素曲面；S2根据待成形对象预设初始加工曲线，初始加工曲线与体素曲面相交形成初始体素曲线；S3计算体素曲面上所有体素与初始体素曲线的距离值，距离值相同且相邻的体素形成等值体素曲线；S4计算等值体素曲线上所有体素对应的当前距离值；S5选取目标体素，利用该目标体素形成等值线，该等值线即为该加工对象表面的增材或减材加工轨迹。通过本发明，实现加工轨迹的基于等值线距离场规划，规划路径准确，加工精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 増减材 制造 基于 曲面 距离 轨迹 规划 方法 | ||
【主权项】：
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