[发明专利]一种提升铪基铁电薄膜性能的方法和应用在审
| 申请号： | 202010757391.7 | 申请日： | 2020-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN111945133A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 陆旭兵;邹正淼 | 申请（专利权）人： | 肇庆市华师大光电产业研究院 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40;C23C14/34;C23C14/24;C23C14/18;C23C14/06;C23C16/56;H01G4/33 |
| 代理公司： | 广州正明知识产权代理事务所(普通合伙) 44572 | 代理人： | 张丽 |
| 地址： | 526000 广东省肇庆市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明属于铁电薄膜材料技术领域，公开了一种提升铪基铁电薄膜性能的方法，包括以下步骤：(1)在清洗干净的衬底上生长TiN底电极；(2)在TiN底电极上通过原子沉积法沉积一层氧化铪‑氧化锆薄膜；(3)在氧化铪‑氧化锆薄膜上沉积氧化锆盖层；(4)退火即可。本发明采用原子层沉积一层氧化锆盖层提升铪基铁电薄膜的方法控制精准，形成的薄膜均匀性好，有利于大面积生产。采以氧化锆作为盖层明显降低了铪基铁电薄膜中非铁电相的比例，提高了正交相的比例，剩余极化强度值提升一倍，同时薄膜的漏电流减少，更不容易发生击穿，薄膜的可靠性得到了提升，在10 |
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| 搜索关键词： | 一种 提升 铪基铁电 薄膜 性能 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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