[发明专利]多光斑光束分析方法及装置在审
| 申请号： | 202010757214.9 | 申请日： | 2020-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN111855158A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 胡松;许维;王雪辉;王建刚 | 申请（专利权）人： | 武汉华工激光工程有限责任公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J1/00 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 杨鹏 |
| 地址： | 430223 湖北省武汉市东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供的多光斑光束分析方法，涉及光斑分析领域，所述方法包括：通过相机获取一帧图像，对图像进行分析；图像包括至少一个感兴趣区域；框选并复制感兴趣区域；分别对光斑区域的光斑参数进行分析测量，得到测量数据；汇总图像中所有感兴趣区域的测量数据，得到测量结果。通过框选并复制图像中的多个光斑区域，通过多个独立运行的进程分别对光斑区域进行光斑参数的分析测量，最后汇总一帧图像中的所有光斑区域的测量数据，得到测量结果；能够同时对多个光斑区域进行分析测量。 | ||
| 搜索关键词： | 光斑 光束 分析 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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