[发明专利]一种具有自清理结构可多方位调节的激光切割设备在审

专利信息
申请号: 202010747516.8 申请日: 2020-07-30
公开(公告)号: CN111992901A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 喻其炳;杨光祥 申请(专利权)人: 重庆工商大学
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;B23K26/70;B23K37/04;B23K26/08;B23K26/142
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 400064 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种具有自清理结构可多方位调节的激光切割设备,涉及激光切割技术领域,包括机体、自清理组件和吸尘组件,所述机体的上方安装有机床,且机床的外部两侧固定有安装座,所述安装座的内部设置有滑轨,且滑轨的内部上方安装有滑轮,所述滑轮的上方安装有机架,且机架的上方内侧设置有滑槽,所述机架的上方前侧安置有激光器,且激光器靠近滑槽的一侧固定有滑块,所述激光器的下方设置有方位调节组件,且方位调节组件的下方安装有激光切割头,所述激光切割头与激光器之间还连接有连接电线,本发明的有益效果是:该装置通过对方位调节组件的设置便于旋转调节激光切割头的朝向,通过对自清理组件的设置便于机床表面的清洁。
搜索关键词: 一种 具有 清理 结构 多方位 调节 激光 切割 设备
【主权项】:
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