[发明专利]面向Java EE程序SQLIA漏洞的污点分析和验证方法及装置有效
| 申请号： | 202010725417.X | 申请日： | 2020-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN111737150B | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 郭帆;范威威;龙薇 | 申请（专利权）人： | 江西师范大学 |
| 主分类号： | G06F11/36 | 分类号： | G06F11/36;G06F8/41;G06F21/57;G06F16/958 |
| 代理公司： | 南昌市平凡知识产权代理事务所 36122 | 代理人： | 夏材祥 |
| 地址： | 330100 *** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种面向Java EE程序SQLIA漏洞的污点分析和验证方法的装置。所述方法包括：对Source进行预处理和分类得到真实可靠的Source集合；应用多重关系匹配存在潜在安全漏洞的(Source,Sink)对；结合静态污点分析和活跃变量分析过滤不可能存在污点传播路径的(Source,Sink)对；对所述Java EE程序进行插桩，然后在执行所述Java EE程序的同时进行动态污点分析并生成Trace；将每条Trace与静态分析结果的(Source,Sink)对进行匹配，判断是否存在真实污点传播路径，获取真实污点传播路径的漏洞集合。达到可以准确检测和定位Java EE程序的潜在SQLIA安全漏洞，提高网站安全性的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 面向 java ee 程序 sqlia 漏洞 污点 分析 验证 方法 装置 | ||
【主权项】：
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