[发明专利]一种判定等离子工艺腔体清洗周期的方法在审
| 申请号： | 202010717059.8 | 申请日： | 2020-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN111812053A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 杨平;张志强;夏欢 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/33 | 分类号： | G01N21/33 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200240 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种判定等离子工艺腔体清洗周期的方法，所述方法是在工艺腔体上加装一个光学透镜，等离子体发射的光通过该光学透镜投射到光谱上，通过光谱仪来实时对等离子体发射光谱进行监测。本发明与现有技术相比的优点是：本发明的方法使等离子工艺腔体的清洗与保养的时间不再依赖于人工经验来确定，同时兼顾生产良率和生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 判定 等离子 工艺 清洗 周期 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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