[发明专利]基于协方差矩阵自适应进化策略算法的光源掩模优化方法有效
| 申请号： | 202010686257.2 | 申请日： | 2020-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN111781804B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 陈国栋;李思坤;王向朝 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/76 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于协方差矩阵自适应进化策略算法的光源掩模优化方法，采用像素表征光源及掩模图形，以光刻胶图形与目标图形之间的图形误差作为评价函数，预先设置一定数量的位置待定的光源点，采用CMA‑ES算法优化这些预设光源点的位置分布与掩模图形。本发明利用了最优光源的分布稀疏性，通过预先设置光源点数量，减少了光源优化阶段的优化变量维数。同时，在最优解搜索过程中自适应地调整搜索空间及搜索步长，提高了优化效率及寻优能力，有效提高了成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 协方差 矩阵 自适应 进化 策略 算法 光源 优化 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010686257.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：热敏片自动插入机
- 下一篇：一种可使用机载电源的空压机及飞机低温放水的方法
