[发明专利]纳米二氧化钛薄膜及制备方法、光电器件的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010664679.X 申请日: 2020-07-10
公开(公告)号: CN113921726A 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 丘洁龙 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 曹柳
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于显示器件技术领域,尤其涉及一种纳米二氧化钛薄膜的制备方法,包括步骤:分别获取水蒸汽、醇蒸汽中的至少一种蒸汽和金属有机化合物蒸气;所述金属有机化合物蒸气至少包括钛金属有机化合物蒸气;在第一保护气体氛围下,将所述水蒸汽、醇蒸汽中的至少一种蒸汽与所述金属有机化合物蒸气混合并进行热反应,沉积形成纳米二氧化钛薄膜。本发明制备方法,通过气相原料反应生成气相游离的纳米二氧化钛颗粒,沉积形成薄膜,与基板结合牢固,且形成的薄膜表面致密,膜层均匀性好。另外,通过控制游离的纳米二氧化钛颗粒的沉积时间,可灵活调控形成的纳米二氧化钛薄膜的厚度,操作简单灵活,适应于工业化大规模生产和应用。
搜索关键词: 纳米 氧化 薄膜 制备 方法 光电 器件
【主权项】:
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