[发明专利]一种铝熔体真空处理系统和方法在审

专利信息
申请号: 202010652395.9 申请日: 2020-07-08
公开(公告)号: CN111763831A 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 王浩伟;汪明亮;陈东;李险峰;陈哲;吴一 申请(专利权)人: 上海交通大学;安徽相邦复合材料有限公司
主分类号: C22B9/04 分类号: C22B9/04;C22B21/06;C22C1/02
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 周一新
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种铝熔体真空处理系统和方法,其中铝熔体真空处理系统包括:铝熔炉、真空循环脱气装置、永磁搅拌装置和加料装置,真空循环脱气装置位于铝熔炉上方且顶部与加料装置密封连接,包括侧壁设有抽气口的真空室和位于其底部且相通的第一通道和第二通道,且第一通道和第二通道均插入铝熔炉内,其一通道外侧壁设有惰性气体入口;永磁搅拌装置位于铝熔炉底部,包括感应器和与感应器相连的变频器;加料装置顶部设有进料口、底部设有放料口,且进料口和放料口可自动开合并形成互锁关系。本发明的系统用于真空处理铝基合金或铝基复合材料熔体时,大大提高铝熔体的真空脱气效率,同时可实现其内合金元素的均匀搅拌。
搜索关键词: 一种 铝熔体 真空 处理 系统 方法
【主权项】:
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