[发明专利]地下室剪力墙的施工方法及其形成的结构在审

专利信息
申请号: 202010651277.6 申请日: 2020-07-08
公开(公告)号: CN111794276A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 崔建伟;周志健;张锳铘;张泽山;张加鑫 申请(专利权)人: 中建八局天津建设工程有限公司
主分类号: E02D29/045 分类号: E02D29/045;E04B2/84
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 宋小光
地址: 300450 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种地下室剪力墙的施工方法,包括:于待施工的区域周围施工围护结构,并开挖待施工的区域以形成基坑;于基坑的底部浇筑形成底板,待底板达到设定强度后,于底板上支设模板并浇筑形成顶板,且该顶板对应待形成剪力墙的位置形成通孔;以及于底板和顶板之间待形成剪力墙的位置支设侧模,使得侧模与围护结构围合形成封闭的浇筑空间,自通孔向浇筑空间内浇筑混凝土,从而形成剪力墙。本发明有效地解决了剪力墙的混凝土浇筑困难的问题,能够使得浇筑的混凝土密实,保证工程质量,实现地下结构的超前施工。
搜索关键词: 地下室 剪力 施工 方法 及其 形成 结构
【主权项】:
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