[发明专利]一种全息光栅扫描光刻曝光量监测及控制方法有效
| 申请号： | 202010640565.1 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN111708257B | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 宋莹;张刘;刘玉娟;朱杨;王文华;范国伟;章家保;张帆 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中理通专利代理事务所(普通合伙) 11633 | 代理人： | 刘慧宇 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测及控制方法，涉及全息光栅制作技术领域，解决现有全息光栅扫描光刻技术存在曝光时间长，制作效率低，以及采用静态曝光监测方法无法满足使用要求等问题，本发明无需在曝光前进行大量样片的制作和测试。在一次全息光栅正式曝光前，进行用于监测曝光量的预曝光，并对扫描运动速度进行优化选择。在扫描运动速度确定后，直接进入全息光栅的正式曝光。曝光量监测控制及后续光刻过程可实现自动化，使光栅制作效率提高，同时根据不同光栅基底上光刻胶涂层参数变化调整曝光量，有效保证了曝光量工艺参数可控性，对提升全息光栅扫描光刻制造工艺水平，提高光栅制造效率，保证大面积全息光栅制作成功率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全息 光栅扫描 光刻 曝光 监测 控制 方法 | ||
【主权项】：
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