[发明专利]超声波传感器、超声波传感器的制备方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202010618891.2 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN113869089A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 勾越;刘英明;崔亮;李秀锋;韩艳玲;姬雅倩;张晨阳;李佩笑;郭玉珍;王迎姿 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;H01L27/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种超声波传感器、超声波传感器的制备方法和显示装置。该超声波传感器包括纹路识别区和对照区。对照区位于纹路识别区的至少一侧;纹路识别区包括至少一个识别单元,对照区包括至少一个对照单元;至少一个识别单元包括第一介电材料层;至少一个对照单元包括第二介电材料层;第一介电材料层和第二介电材料层由相同的材料制成;第一介电材料层具有压电特性;以及第一介电材料层的压电应变常数大于第二介电材料层的压电应变常数。该超声波传感器可以提升信噪比。
搜索关键词: 超声波传感器 制备 方法 显示装置
【主权项】:
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