[发明专利]一种自分层放射性污染控制与清除材料及制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010612593.2 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111876039B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 王静;郑力;李坚;赵莉 申请(专利权)人: 中国人民解放军军事科学院国防工程研究院工程防护研究所
主分类号: C09D133/04 分类号: C09D133/04;C09D131/04;C09D7/61;C09D7/65;B05D7/24;B05D1/02;G21F1/02;G21F9/00
代理公司: 洛阳润诚慧创知识产权代理事务所(普通合伙) 41153 代理人: 智宏亮
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种自分层放射性污染控制与清除材料及制备方法和应用,该材料包括水性基础成膜剂、微球发泡剂、屏蔽粉体、触变剂、分散剂、润湿剂和消泡剂;通过向基础成膜剂中物理混入轻量化屏蔽功能组合物来解决屏蔽组份易沉降的技术难题;同时,基础成膜剂与轻量化组合物的密度差也进一步促进材料自分层并富集在涂膜的上层,不占用下层去污材料的颜料体积含量,解决了添加填料削弱去污效果的技术难题。
搜索关键词: 一种 分层 放射性 污染 控制 清除 材料 制备 方法 应用
【主权项】:
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