[发明专利]自适应像差校正方法及基于该方法的光片显微成像装置有效
| 申请号： | 202010587864.3 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN111580271B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 王伟波;李晓君;詹天鹏;谭久彬 | 申请（专利权）人： | 哈工大机器人（中山）无人装备与人工智能研究院 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京隆源天恒知识产权代理有限公司 11473 | 代理人： | 鞠永帅 |
| 地址： | 528400 广东省中山市翠亨新区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种自适应像差校正方法以及基于所述自适应像差校正方法的光片显微成像装置，所述自适应像差校正方法包括：建立像差的泽尼克多项式表征模型；利用遗传算法求解所述泽尼克多项式表征模型的近似最优解；以所述近似最优解为起点，利用随机并行梯度下降算法进一步求解所述泽尼克多项式表征模型的全局最优解；基于所述全局最优解计算待矫正相位，其中，所述待矫正相位为像差校正参数。本发明所述的自适应像差校正方法可校正的像差范围大，并具有较高的像差校正速度。 | ||
| 搜索关键词： | 自适应 校正 方法 基于 显微 成像 装置 | ||
【主权项】：
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