[发明专利]一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法有效
| 申请号： | 202010575620.3 | 申请日： | 2020-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN111650680B | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 程鑫彬;邓晓;刘杰;顾振杰;李同保;赵俊;杨树敏;吴衍青;邰仁忠 | 申请（专利权）人： | 同济大学;中国科学院上海应用物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 王怀瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精确 缩短 节距值 溯源 光栅 标准 物质 制备 方法 | ||
【主权项】：
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