[发明专利]光学成像元件设计方法、制作方法及其光学成像元件在审
| 申请号： | 202010566850.3 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111679427A | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 陶少华 | 申请（专利权）人： | 中南大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 长沙永星专利商标事务所(普通合伙) 43001 | 代理人： | 周咏;米中业 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学成像元件设计方法，包括设定输入平面光束的光强和位相均为均匀分布；设定输出平面上聚焦光斑的参数；设定目标衍射光学元件与输出平面之间的距离；设定光波从目标衍射光学元件传输到输出平面的传输方式；采用光束整形方法计算得到目标衍射光学元件的位相分布。本发明还公开了包括所述光学成像元件设计方法的制作方法，以及采用所述光学成像元件设计方法设计并采用所述制作方法制作得到的光学成像元件。本发明可以灵活设置成像分辨率、成像偏离光轴的位置以及一物同时成多像等，方法方便灵活，而且成像效果更好，成像方式更为灵活，而且通用性好、可靠性高且实用性好。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 元件 设计 方法 制作方法 及其 | ||
【主权项】：
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